مطالع، بررسی و بهینه سازی آستانه تخریب لیزری برای آینه های بازتاب بالا، برای طول موج 1064 نانومتر.

پایان نامه
چکیده

هدف اصلی در این پروژه مطالعه کلیه پارامترهای تاثیرگذار در آستانه تخریب لیزری قطعات اپتیکی آنهاست که به موجب آن بتوان پایداری این قطعات را در مقابل توانهای بالای لیزری افزایش داد در این تحقیق، پس از مطالعه اولیه در مورد مفاهیم خلأ، پمپ های خلأ، محفظه خلا و فشارسنج ها، پارامترهای مختلف رشد لایه مورد بررسی قرار گرفته است. همچنین روش های مختلف آنالیز سطح مانند اسپکتروفتومتر و میکروسکوپ روبشی که برای آنالیز نمونه ها مورد استفاده قرار گرفته اند، نیز مورد توجه قرار گرفته است. در ادامه، پس از مطالعه طراحی و ساخت فیلترهای اپتیکی، بهینه سازی آستانه تخریب لیزری برای فیلتر اپتیکی در طول موج 1064 که موضوع اصلی پروژه می باشد، مورد بررسی قرار گرفته است. بدین جهت، علاوه بر بررسی پارامترهای تاثیر گذارمختلفی مانند دما، مقدار فشار محفظه خلأ وآلودگی زیرلایه، طراحی خاصی را مورد مطالعه قرار دادیم.که تأثیر توزیع میدان الکتریکی را که مهمترین عامل در کاهش آستانه تخریب لیزری می باشد را به حداقل برسانیم. برای ساخت فیلتر اپتیکی از روش تبخیر باریکه الکترونی در خلا استفاده کرده ایم. لایه نشانی بوسیله دستگاه leybold a700 انجام گرفته است. همچنین از نرم افزار شبیه ساز macleod جهت شبیه سازی لایه های نازک مورد نظر استفاده می شود. طیف اپتیکی فیلتر توسط سیستم اسپکتروفتومتر carry 6000i اندازه گیری گردید. برای ریخت شناسی سطح لایه ها نیز از میکروسکوپ نوری و میکروسکوپ پروبی روبشی afm استفاده گردید. همچنیین برای بررسی آستانه تخریب نمونه ها از چیدمان طراحی شده با لیزرnd:yag بهره بردیم.

۱۵ صفحه ی اول

برای دانلود 15 صفحه اول باید عضویت طلایی داشته باشید

اگر عضو سایت هستید لطفا وارد حساب کاربری خود شوید

منابع مشابه

طراحی و ساخت آینه بازتاب بالای دی الکتریک برای لیزر nd:yag با طول موج 1064 نانومتر

در این تحقیق تعداد پنج زیرلایه از جنس bk7به قطر 54/2 میلیمتر و ضخامت 4 میلیمتر تهیه شده و تحت عملیات سایش و پولیش یکسان قرار گرفتند تا دارای کیفیت سطح یکسان (کیفیت سطح /4?) گردند. سپس آنالیز تداخل سنجی و اسپکتروفوتومتری بر روی آنها صورت گرفت تا کیفت سطح هر نمونه و میزان بازتابش آنها پیش از لایه نشانی مشخص گردد. زیرلایه ها شامل 11 لایهtio2 با ضریب شکست 25/2 هر کدام به ضخامت 118 نانومتر و 10 لایه...

طراحی و ساخت آینه ضدبازتاب برای طول موج 1064nm از ترکیب مواد mgf2 و caf2 برای بالا بردن آستانه تخریب

در این پایان نامه? قرص هایی با مواد mgf2و caf2 با درصد های مختلفی از caf2 تهیه شده، لایه های نازکی از آن ها با استفاده از روش فیزیکی pvd بوسیله دستگاه balzerروی زیرلایه bk7 تهیه گردید. جهت مطالعه مورفولوژی و خواص ساختاری نمونه های بدست آمده، از آنالیز های xrd و sem، و برای شناسایی درصد عناصر موجود در آنها از تست rbs و xpma استفاده شد. مطالعه و بررسی خواص اپتیکی لایه های تهیه شده با استفاده از ر...

15 صفحه اول

طراحی و ساخت فیلتر تراگسیل القایی برای طول موج 532، 940 و 1064 نانومتر توسط مواد مختلف

طراحی و ساخت فیلترهای تراگسیل القایی هدف ما بوده است. روند بیشتر طراحی ها اینگونه بوده است که ابتدا، یک فیلتر دی الکتریک طراحی شده است و یا دو ماده با ضرایب شکست بالا و پایین انتخاب شده است، سپس یک یا دو لایه فلزی اضافه شده است. این لای? فلز منجربه متمرکز شدن منحنی عبوری می شود. تمامی لایه نشانی ها توسط روش انباشت فیزیکی بخار (pvd) انجام شدند. در مرحله ساخت، مواد با نرخ نانومتر برثانیه انباشت ...

15 صفحه اول

طراحی بهینه سلول های خورشیدی بسیار جدار نازک برای کاربردهای نانو در محدوده طول موج مریی

سلول­های خورشیدی جدارنازک کادمیوم تلوراید/کادمیوم سولفید به واسطه داشتن راندمان عملکرد بالا، بالاضریب صدور بالا، شکاف باند نزدیک به مقدار بهینه برای تبدیل انرژی خورشیدی و هزینه تولید پایین به عنوان یکی از مستعدترین گزینه­ها در صنعت سلول­های فتوولتائیک خورشیدی مطرح می­باشند. عملکرد سلول­های خورشیدی جدار نازک کارآمد نیازمند طراحی پارامترهای بهینه هر لایه از سلول خورشیدی می­باشد. با توجه به آنکه ض...

متن کامل

بررسی آستانه تخریب لیزری لایه های نازک اپتیکی zro2 و tio2 در طول موج 532nm، بصورت تجربی و تئوری

به منظور مطالعه آستانه تخریب لیزری، لایه های نازک tio2وzro2 به روش تبخیر بیم الکترونی روی زیرلایه bk7 لایه نشانی شدند سپس به مدت 3 ساعت با گرادیانهای مختلف دمایی تحت عملیات حرارتی قرار گرفتند؛ با استفاده از پراش پرتوی ایکس(xrd)، میکروسکوپ نیروی اتمی(afm)، طیف سنجuv-vis و طیف سنجی فوتوالکترون با پرتوی ایکس(xps)، مشخصات اپتیکی، ساختاری، ریخت شناسی و ترکیب شیمایی بدست آمد. آستانه تخریب لیزری با اس...

15 صفحه اول

پردازش تصویر برای بهینه سازی روش های آستانه گیری و تعیین قطر نانوالیاف

الیاف پلیمری کاربردهای زیادی در علوم مختلف مهندسی از جمله نساجی، کامپوزیت و پزشکی دارند. خواص فیزیکی الیاف پلیمری بیشترین اثر را از قطر این الیاف می پذیرد. بنابراین، با کاهش قطر الیاف در حد نانو، خواص ویژه ای در این مواد ظاهر می شود که آن ها را بسیار کارآمد می کند. از این رو، توسعه روش اندازه گیری قطر الیاف به طور دقیق و خودکار بسیار مهم است. در سال های اخیر، پردازش تصویر به عنوان روشی متداول ب...

متن کامل

منابع من

با ذخیره ی این منبع در منابع من، دسترسی به آن را برای استفاده های بعدی آسان تر کنید

ذخیره در منابع من قبلا به منابع من ذحیره شده

{@ msg_add @}


نوع سند: پایان نامه

دانشگاه آزاد اسلامی - دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران مرکزی - دانشکده علوم پایه

میزبانی شده توسط پلتفرم ابری doprax.com

copyright © 2015-2023